فناوری رسوب فیزیکی بخار (رسوب فیزیکی بخار، PVD) به استفاده از روشهای فیزیکی در شرایط خلاء برای تبخیر سطح یک منبع ماده (جامد یا مایع) به اتمها یا مولکولهای گازی یا یونیزه کردن جزئی به یونها و عبور از گاز کمفشار (یا پلاسما) اشاره دارد. فرآیند، فناوریای برای رسوب یک فیلم نازک با عملکرد ویژه روی سطح یک زیرلایه است و رسوب فیزیکی بخار یکی از فناوریهای اصلی عملیات سطحی است. فناوری پوشش PVD (رسوب فیزیکی بخار) عمدتاً به سه دسته تقسیم میشود: پوشش تبخیر در خلاء، پوششدهی با کندوپاش در خلاء و پوششدهی یونی در خلاء.
محصولات ما عمدتاً در پوششدهی تبخیر حرارتی و کندوپاش استفاده میشوند. محصولات مورد استفاده در رسوب بخار شامل سیم رشته تنگستن، قایقهای تنگستن، قایقهای مولیبدن و قایقهای تانتالیوم است. محصولات مورد استفاده در پوششدهی پرتو الکترونی شامل سیم تنگستن کاتدی، بوته مسی، بوته تنگستن و قطعات فرآوری مولیبدن است. محصولات مورد استفاده در پوششدهی کندوپاش شامل تارگتهای تیتانیوم، تارگتهای کروم و تارگتهای تیتانیوم-آلومینیوم است.
