روش تبخیر پرتو الکترونی نوعی پوشش تبخیر خلاء است که از پرتوهای الکترونی برای گرم کردن مستقیم مواد تبخیر در شرایط خلاء، تبخیر مواد تبخیر و انتقال آن به بستر و متراکم شدن بر روی بستر برای تشکیل یک لایه نازک استفاده می‌کند. در دستگاه گرمایش پرتو الکترونی، ماده گرم شده در یک بوته خنک شده با آب قرار می گیرد که می تواند از واکنش بین ماده تبخیر و دیواره بوته جلوگیری کند و بر کیفیت فیلم تأثیر بگذارد. بوته های متعددی را می توان در دستگاه قرار داد تا به تبخیر و رسوب همزمان یا جداگانه مواد مختلف دست یابد. با تبخیر پرتو الکترونی، هر ماده ای را می توان تبخیر کرد.
تبخیر پرتو الکترونی می تواند مواد با نقطه ذوب بالا را تبخیر کند. در مقایسه با تبخیر گرمایش با مقاومت عمومی، بازده حرارتی بالاتر، چگالی جریان پرتو بالاتر و سرعت تبخیر سریع‌تر است. فیلم و فیلم از مواد مختلف نوری مانند شیشه رسانا.
ویژگی تبخیر پرتو الکترونی این است که دو طرف ساختار سه بعدی هدف را نمی پوشاند یا به ندرت می پوشاند و معمولاً فقط روی سطح هدف رسوب می کند. این تفاوت بین تبخیر پرتو الکترونی و کندوپاش است.
تبخیر پرتو الکترونی معمولاً در زمینه تحقیقات و صنعت نیمه هادی ها استفاده می شود. انرژی الکترونی شتاب‌دار برای ضربه زدن به هدف مادی استفاده می‌شود و باعث تبخیر و بالا رفتن هدف مادی می‌شود. در نهایت روی هدف رسوب کرد.
زمان ارسال: دسامبر-02-2022